Testing and Failure Analysis
技術(shù)參數(shù)
1.采用1-25 kV穩(wěn)定的肖特基場發(fā)射源;
2.二次電子成像可達(dá)4096×4096像素的分辨率;
3.空間分辨率:8 nm;
4.采集深度:5-75 ?;
5.成分檢出限:0.1atom %;
6.采集信息:元素(Li~U)部分化學(xué)態(tài);
應(yīng)用范圍
用于分析固體材料表面納米深度的元素(部分化學(xué)態(tài))成分組成,可以對納米級形貌進(jìn)行觀察和成分表征。既可以分析原材料(粉末顆粒,片材等)均勻表面組成,又可以分析材料或特定產(chǎn)品表面缺陷如污染,腐蝕,摻雜,吸附、雜質(zhì)偏析等,還具備深度剖析功能表征鈍化層,摻雜深度,納米級多層膜層結(jié)構(gòu)等。
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